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产品名称（中文/英文）	CAS号	质量指标/金杂	应用领域	欢迎询价
4-氯甲基苯乙烯（纯对位） 4-Vinylbenzyl chloride	1592-20-7	≥98%；金杂按需	负性光刻胶树脂、E-beam电子束光刻胶、先进封装介电材料、均相离子交换膜、超纯水树脂、螯合树脂	欢迎询价
2-氯甲基苯乙烯（纯邻位） 1-(chloromethyl)-2-vinylbenzene	22570-84-9	≥98%；金杂按需	负性光刻胶树脂、E-beam电子束光刻胶、先进封装介电材料、均相离子交换膜、超纯水树脂、螯合树脂	欢迎询价
1-(氯甲基)-3-乙烯基苯（纯间位） 1-(chloromethyl)-3-vinylbenzene	39833-65-3	≥98%；金杂按需	负性光刻胶树脂、E-beam电子束光刻胶、先进封装介电材料、均相离子交换膜、超纯水树脂、螯合树脂	欢迎询价
氯甲基乙烯基苯（任意比例混合物） Vinylbenzyl chloride	30030-25-2	≥98%；金杂按需	负性光刻胶树脂、E-beam电子束光刻胶、先进封装介电材料、均相离子交换膜、超纯水树脂、螯合树脂	欢迎询价
甲基丙烯酸 1-丁氧基乙酯 1-Butoxyethyl methacrylate	85997-75-7	≥99%；金杂<10ppb	KrF（248nm）和ArF（193nm）化学放大光刻胶、光刻胶显影液	欢迎询价
双(环己磺酰基)重氮甲烷 Bis(cyclohexylsulfonyl)diazomethane	138529-81-4	≥99%；金杂按需	核心光致产酸剂（PAG），驱动化学放大光刻胶树脂脱保护反应	欢迎询价
双(对-甲苯磺酰)重氮甲烷 Bis(P-Toluenesulfonyl)Diazomethane	14159-45-6	≥99%；金杂按需	重氮系PAG，面板显示光刻胶、先进PCB干膜光刻胶、厚膜MEMS光刻胶	欢迎询价
4-(1-甲基-1-苯乙基)苯基 3-重氮基-3,4-二氢-4-氧代-1-萘磺酸 2-diazonio-4-[4-(2-phenylpropan-2-yl)phenoxy]sulfonylnaphthalen-1-olate	23121-00-8	≥99%；金杂按需	半导体正性光刻胶、面板制造与先进封装	欢迎询价
3a-甲基-6a-正丙基-1,3,4,6-四甲氧甲基甘脲 3a-methyl-6a-n-propyl-1,3,4,6-tetramethoxymethyl glycolurea	220140-29-4	≥99%；金杂<10ppb	高级抗反射层（BARC）及光刻胶交联剂，深紫外光刻胶系统	欢迎询价
1,3-双(环氧乙烷基甲基)-5-(2-丙烯基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮 1,3-bis(oxiranylmethyl)-5-(2-propenyl)-1,3,5-Triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione	69731-45-9	≥99%；金杂<20ppb	负性光刻胶系统、半导体先进封装（晶圆级封装）高性能介电树脂、交联剂	欢迎询价
4-[2-[4-羟基-3,5-二(羟基甲基)苯基]丙-2-基]-2,6-二(羟基甲基)苯酚 5,5-isopropylidenebis(m-xylene-2,alpha,alpha'-triol)	3957-22-0	≥99%；金杂按需	高端光刻胶多官能团交联剂	欢迎询价
对甲苯磺酸水合物（电子级） p-Toluenesulfonic acid monohydrate	6192-52-5	≥99%；仅电子级	半导体树脂固化、光刻胶成分（PAG协同组分）、特种酯化反应	欢迎询价
苯并环丁烯（BCB） Benzocyclobutene	694-87-1	≥99%；金杂按需	先进半导体封装、高频射频、5G/6G毫米波高频基板、光电子集成器件包覆层、光敏BCB光刻胶、晶圆级封装永久介质膜	欢迎询价

产品名称（中文/英文）	CAS号	质量指标/金杂	应用领域	欢迎询价
双酚A型二醚二酐（BPADA） 4,4'-(4,4'-ISOPROPYLIDENEDIPHENOXY)BIS(PHTHALIC ANHYDRIDE)	38103-06-9	≥99%；金杂按需	高性能聚酰亚胺关键合成单体，5G高频高速柔性覆铜板、OLED柔性基板、航空航天轻量化复合材料	欢迎询价
单烯丙基异氰脲酸 1,3,5-Triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, 1-(2-propenyl)-	3030-60-2	≥99%；金杂按需	特种工程塑料改性、电子粘合剂、涂料树脂交联改性	欢迎询价
2,4,6-三氧代-1,3,5-三嗪-1,3,5(2H,4H,6H)-三乙酸 1,3,5-Triazine-1,3,5(2H,4H,6H)-triacetic acid, 2,4,6-trioxo-	1968-52-1	≥99%；金杂按需	特种高分子交联剂，水性聚氨酯树脂、聚酯树脂及光固化树脂改性单体	欢迎询价
1,3,5-三[(2-硫代-1,3-氧硫杂环戊烷-5-基)甲基]-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮 1,3,5-Tris[(2-thioxo-1,3-oxathiolan-5-yl)methyl]-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione	439694-03-8	≥99%；金杂按需	超高折射率光学树脂，有机-无机杂化纳米复合物	欢迎询价

产品名称（中文/英文）	CAS号	质量指标/金杂	应用领域	欢迎询价
1-芘甲醛 1-Pyrenecarboxaldehyde	3029-19-4	≥99%；金杂按需	OLED发光层/传输层材料、高分子荧光探针传感器、太阳能电池染料	欢迎询价
9-蒽甲酸 9-Anthracenecarboxylic acid	723-62-6	≥99%；金杂按需	OLED发光层材料、光引发剂、高分子荧光探针	欢迎询价
4,4',4''-(乙烷-1,1,1-三基)三(2,6-二(甲氧基甲基)苯酚) Phenol, 4,4',4"-ethylidynetris[2,6-bis(methoxymethyl)-	672926-26-0	≥99%；金杂按需	OLED发光层材料、高分子荧光探针、特种光引发剂	欢迎询价

产品名称（中文/英文）	CAS号	质量指标/金杂	应用领域	欢迎询价
5-甲基苯并三氮唑 5-Methyl-1H-benzotriazole	136-85-6	≥99.9%；金杂按需	半导体电子材料（铜及铜合金缓蚀剂、光刻胶防褪色剂），工业循环水处理、防锈油、高级润滑油系统	欢迎询价
3,3'-二硫代二丙酸 3,3'-Dithiodipropionic acid	1119-62-6	≥99%；金杂<20ppb	聚合物抗氧剂和稳定剂、高端电子铜箔表面处理、贵金属自组装单分子层修饰	欢迎询价
四甲基硅酸铵 Tetramethylammonium silicate solution	53116-81-7	≥99%；金杂按需	导体CMP研磨液、高端无机涂层与结合剂	欢迎询价

产品名称（中文/英文）	CAS号	质量指标/金杂	应用领域	欢迎询价
单正丁基二甲基硅氧基封端单(6,6-二羟乙基-4-氧代正辛基)二甲基硅基封端聚二甲基硅氧烷 Single (6,6-dihydroxyethyl-4-oxooctyl)dimethylsilyl terminated polydimethylsiloxane with n.butyl dimethylsiloxy end-capping	暂无	≥99%；金杂按需	顶级树脂防粘/爽滑改性剂，高端聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯合成	欢迎询价
乙烯基三甲氧基封端聚二甲基硅氧烷（改性硅油） Ethylene trimethoxy terminated polydimethylsiloxane modified silicone oil	暂无	≥99%；金杂按需	双重固化/附着力促进剂，电子灌封胶、LED封装硅胶、室温硫化（RTV）硅橡胶	欢迎询价

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