低维反铁磁材料实现“可读可写”——为新一代低功耗高速芯片开辟新路径
2026-06-10 · 系列介绍 · 百灵威授权转载
复旦大学物理学团队利用自主开发的多模态磁光显微技术，发现低维层间反铁磁体系能在磁场下实现确定性的双稳态整体切换，并完善了经典磁学理论。这一突破推动反铁磁材料从“有趣而无用”迈向“可读可写”，为开发新一代低功耗、高速运算芯片提供了新路径。相关成果发表于《自然》。我司提供系列高纯磁性金属有机前驱体（钴、镍、锰、铁等）、二维材料生长源及表征用衬底，助力低维反铁磁材料的可控合成与器件构筑。
产品优势及特点：
- - 磁性金属有机前驱体：提供二(乙基环戊二烯基)锰(II)、二(甲基环戊二烯基)镍(II)、双(环戊二烯)钴(II)等高纯度前驱体（≥99.99% metal basis），适用于MOCVD/ALD生长低维反铁磁薄膜（如CrS₂、MnS₂、NiTe₂等）。- - 二维材料生长源：含钼、钨、钛等前驱体，可用于构建异质结或调控磁各向异性。
- - 衬底与表面处理：提供晶圆级石墨烯转移膜、硅衬底、石英衬底等，以及等离子刻蚀预处理所需的湿电子化学品。
- - 器件制备配套：正胶显影液、负胶漂洗液、氟化液清洗剂等，支持光刻图案化与器件加工。
- - 表征辅助：高纯溶剂用于样品清洗，标准钢瓶用于前驱体安全输送，保障磁光显微等表征的样品质量。
应用场景：
- - 低维反铁磁材料（如过渡金属硫族化合物、卤化物）的MOCVD/ALD合成- - 二维磁性异质结与自旋电子器件制备
- - 反铁磁体磁化翻转机制研究（磁光克尔效应、磁畴成像）
- - 低功耗、高密度磁存储及逻辑器件开发
核心推荐产品清单
磁性金属有机前驱体
| 品名 | CAS | 货号 |
|---|---|---|
| Bis(ethylcyclopentadienyl)manganese, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder 二(乙基环戊二烯基)锰(II) | 101923-26-6 | 953383 |
| Bis(methylcyclopentadienyl)nickel, 99.999% 二(甲基环戊二烯基)镍(II) | 1293-95-4 | 930278 |
| Bis(cyclopentadienyl)cobalt(II), 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder 双(环戊二烯基)钴 | 1277-43-6 | 941710 |
| Bis(pentamethylcyclopentadienyl)cobalt(II), ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder 双(五甲基环戊二烯基)钴(II) | 74507-62-3 | 924019 |
| Tin(II) acetylacetonate, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder 二(乙酰丙酮酸)锡(II) | 16009-86-2 | 111772 |
| Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)ruthenium(III), 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder 三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钌 | 38625-54-6 | 147692 |
其他过渡金属前驱体
| 品名 | CAS | 货号 |
|---|---|---|
| Bis(diethylamino)silane, 99.9999% 双(二乙氨基)硅烷 | 27804-64-4 | 957403 |
| Tetrakis(dimethylamino)titanium, ICPMS-99.9999% 四(二甲氨基)钛 | 3275-24-9 | 952803新 |
| Bis(t-butylimido)bis(dimethylamino)tungsten(VI), 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder 二(二甲氨基)二(叔丁基亚氨基)钨(VI) | 406462-43-9 | 918995 |
| Tetrakis(ethylmethylamino)titanium, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder 四(乙基甲氨基)钛(IV) | 175923-03-2 | 9186316 |
衬底与二维材料模板
| 品名 | CAS | 货号 |
|---|---|---|
| Wafer-scale graphene transfer film, graphene wafer-scale film transfer to silicon substrate, Four inches, Four inches 晶圆级石墨烯转移膜，石墨烯晶圆级薄膜转移到硅衬底，Four inches | / | 9426698 |
| Non-transferable graphene wafer, quartz substrate, surface resistance below 3000,4 inches, 1 EA=10 pcs, Four inches, 1 EA=10 pcs 无转移石墨烯晶圆，衬底为石英，面电阻低于3000，4英寸，1 EA=10 pcs | / | 9426712 |
| Single layer single crystal graphene wafer, substrate sapphire, roughness: <1 nm, 4 inches, Four inches 单层单晶石墨烯晶圆，衬底为蓝宝石，粗糙度：<1 nm，4英寸 | / | 9426669 |
湿法光刻与清洗试剂
| 品名 | CAS | 货号 |
|---|---|---|
| 3038 Photoresist developer, 2.380 ± 0.01wt%, high-purity, main component TMAH 3038正胶显影液 | / | 9393345新 |
| Negative gel developer FX-A, 95%, High purity 负胶显影液FX-A | / | 9393343 |
| Negative adhesive rinsing solution FP-A, 99.8%, High purity 负胶漂洗液FP-A | / | 9393344 |
| Isopropanol, 99.9%, ELH-Ⅲ 异丙醇 | 67-63-0 | 984033 危化品 |
辅助溶剂与钢瓶
| 品名 | CAS | 货号 |
|---|---|---|
| 50ml Standard cylinder, Suitable for the vast majority of domestic equipments 50mL标准钢瓶 | / | 9395115 |
| 60ml Standard cylinder, Suitable for the equipment of Picosun 60mL标准钢瓶 | / | 9395123 |
| 7000 electronic fluorine solution, Used as a cooling working fluid 7000电子氟化液 | / | 9435353 |
| Butyl acetate, 99.5%, EL-Ⅲ 乙酸丁酯 | 123-86-4 | 977722 危化品 |
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