给聚合物半导体“补钙”——晶格工程策略大幅提升光解水制氢效率
2026-06-10 · 系列介绍 · 百灵威授权转载
中国科学院金属研究所最新研究发表于《自然-通讯》，通过向聚合物半导体聚三嗪酰亚胺（PTI）中“补钙”，成功将光生激子结合能从48.2 meV降至15.4 meV，使电子与空穴高效分离并沿不同路径迁移，光解纯水制氢初始活性提升3.4倍。这一“晶格工程”策略为低成本、规模化太阳能制氢开辟了新路径。我司提供系列高纯含氮杂环半导体单体、金属有机前驱体及超干溶剂，可助力新型光催化材料的设计与合成。
产品优势及特点：
- - 含氮杂环半导体砌块：提供咔唑类、萘类、芘类、咪唑类等数十种高纯有机单体，可作为三嗪类聚合物（如PTI、g-C₃N₄）的前驱体或共聚单体，调控能带结构与激子行为。- - 金属掺杂源：钙、镁、锌、钡等金属有机前驱体（如二(异丙基乙脒基)钙、双(五甲基环戊二烯基)钡、二(乙酰丙酮酸)锡(II)等），可引入晶格工程所需金属离子，优化电荷分离效率。
- - 超干高纯溶剂：丙二醇单甲醚乙酸酯（PGMEA）、异丙醇、乙酸丁酯等电子级溶剂，水分含量低，适用于敏感聚合物的合成与纯化。
- - 辅助耗材与设备兼容：显影液、漂洗液等湿电子化学品，以及标准钢瓶包装，满足从实验室合成到光催化测试的全流程需求。
应用场景：
- - 聚合物半导体（g-C₃N₄、PTI、共价三嗪框架等）光催化材料改性- - 太阳能光解水制氢、光催化CO₂还原、污染物降解
- - 晶格工程（异质原子掺杂、缺陷调控）策略开发
- - 低成本、规模化光催化材料合成工艺研究
核心推荐产品清单
含氮杂环半导体单体
| 品名 | CAS | 货号 |
|---|---|---|
| 9-Phenyl-2-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-9H-carbazole, 98% 9-苯基-2-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼杂环戊烷-2-基)-9H-咔唑 | 1246669-45-3 | 1881523 |
| 9-(2-Ethylhexyl)-2,7-bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-9H-carbazole, 98% 9-(2-乙基己基)-2,7-双(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧杂环戊硼烷-2-基)-9H-咔唑 | 476360-83-5 | 1891890 |
| N,N'-Di(1-naphthyl)-4,4'-biphenyldiamine, 99% N,N'-二(1-萘基)-4,4'-联苯二胺 | 152670-41-2 | 1020420 |
| Naphthalene-1-carboxamide, 97% 萘-1-甲酰胺 | 2243-81-4 | 221151 |
| Di-(1-pyrenyl)amine, 98% 二-(1-芘基)胺 | 1592944-76-7 | 9379716 |
| 9-(1-Naphthyl)carbazole, 99% 9-（1-萘基）咔唑 | 22034-43-1 | 911614 |
金属掺杂源 品名 CAS 货号 Bis(N,N-di-isopropyl acetamidinyl) calcium dimer, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
二(异丙基乙脒基)钙 1959584-79-2 9393978
Bis(pentamethylcyclopentadienyl)barium, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
双(五甲基环戊二烯)钡 112379-49-4 1415112
Bis(pentamethylcyclopentadienyl)magnesium, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
双(五甲基环戊二烯基)镁 74507-64-5 229956
Tin(II) acetylacetonate, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
二(乙酰丙酮酸)锡(II) 16009-86-2 111772
Tetrakis(diethylamino)titanium(IV), 99.999%
四(二乙氨基)钛(IV) 4419-47-0 903906
Bis(cyclopentadienyl)cobalt(II), 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
双(环戊二烯基)钴 1277-43-6 941710
超干高纯溶剂与湿电子化学品
品名 CAS 货号 Propylene glycol methyl ether acetate, 99.9%, ELH-Ⅲ
丙二醇单甲醚乙酸酯 108-65-6 976499
Isopropanol, 99.9%, ELH-Ⅲ
异丙醇 67-63-0 984033
危化品 Butyl acetate, 99.5%, EL-Ⅲ
乙酸丁酯 123-86-4 977722
危化品 3038 Photoresist developer, 2.380 ± 0.01wt%, high-purity, main component TMAH
3038正胶显影液 / 9393345新
Negative adhesive rinsing solution FP-A, 99.8%, High purity
负胶漂洗液FP-A / 9393344
Negative gel developer FX-A, 95%, High purity
负胶显影液FX-A / 9393343
其他辅助材料
品名 CAS 货号 Tetrakis(ethylmethylamino)titanium, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
四(乙基甲氨基)钛(IV) 175923-03-2 9186316
Bis(t-butylimido)bis(dimethylamino)tungsten(VI), 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
二(二甲氨基)二(叔丁基亚氨基)钨(VI) 406462-43-9 918995
Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)ruthenium(III), 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钌 38625-54-6 147692
Tris(N,N-bis(trimethylsilyl)amide)lanthanum(III), 99.99%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
三[N,N-二(三甲基硅烷基)氨基]镧(III) 35788-99-9 116668
50ml Standard cylinder, Suitable for the vast majority of domestic equipments
50mL标准钢瓶 / 9395115
60ml Standard cylinder, Suitable for the equipment of Picosun
60mL标准钢瓶 / 9395123
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二(异丙基乙脒基)钙
双(五甲基环戊二烯)钡
双(五甲基环戊二烯基)镁
二(乙酰丙酮酸)锡(II)
四(二乙氨基)钛(IV)
双(环戊二烯基)钴
丙二醇单甲醚乙酸酯
异丙醇
危化品
乙酸丁酯
危化品
3038正胶显影液
负胶漂洗液FP-A
负胶显影液FX-A
四(乙基甲氨基)钛(IV)
二(二甲氨基)二(叔丁基亚氨基)钨(VI)
三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钌
三[N,N-二(三甲基硅烷基)氨基]镧(III)
50mL标准钢瓶
60mL标准钢瓶
