含硼+含硫添加剂组合，原位构建高电压稳定CEI
2026-06-10 · 系列介绍 · 百灵威授权转载
单晶超高镍三元正极材料表面的残锂化合物（LiOH/Li₂CO₃）是导致界面阻抗升高、循环寿命衰减的核心难题。昆明理工大学与清华大学团队在《Energy & Environmental Science》上发表研究，提出利用含硼/含硫添加剂原位中和残锂并构建稳定CEI膜的策略。基于这一技术思路，我们整合了一套成熟的含硼添加剂（TMSB、LiODFB）与含硫成膜剂（PS、DTD）组合方案，可在正极表面形成富含B、S元素的稳定CEI膜，有效清除残锂、抑制电解液分解，显著提升4.5V以上高电压及60℃高温循环稳定性。
产品优势及特点：
- - 含硼协同清除残锂：TMSB与LiODFB在电化学氧化过程中形成B-O无机层，优先与正极表面LiOH/Li₂CO₃反应，消除绝缘层，降低界面阻抗。- - 含硫增强CEI韧性：PS和DTD氧化生成Li₂SO₃/Li₂SO₄等无机硫化物，提升CEI膜的机械强度和离子导电性，抑制正极微裂纹。
- - 多层CEI协同保护：TMSP清除HF，VC/FEC形成有机聚合膜，多层界面协同稳定高电压（≥4.5V）及高温（60℃）循环。
应用场景：
- - 单晶/多晶高镍三元正极（NCM811、NCM9055）体系- - 充电截止电压≥4.5V的高能量密度锂离子电池
- - 宽温域（-20℃~60℃）动力电池及长寿命储能电池
- - 电解液配方优化、正极界面改性研发项目
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正极材料及辅料
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