用于聚焦电子束诱导沉积（FEBID）的钌前体
2020-12-17 · 推荐产品 · 百灵威授权转载
使用聚焦电子束诱导沉积（FEBID），可实现三维金属纳米结构的独立生长。此化学气相沉积（CVD）过程在扫描电子显微镜（SEM）中进行，其中电子束提供的能量作为“笔”，易挥发的前体充当“墨水”，即金属源，从而实现各种金属的“书写”，包括银Ag、金Au、钴Co、铁Fe和钨W[1-5] 。
(η3-allyl)Ru(CO)3Br
沉积物纯度在很大程度上取决于前体的化学性质。通常，优先选含碳量低的金属有机化合物，以增加纳米结构中的金属含量。已知羰基基团在电子辐照下很容易弹出，而环戊二烯基配体是较差的离去基团[5]。 将 (η3-allyl)Ru(CO)3Br成功引入FEBID，作为(EtCp)2Ru替代品，在形成气体处理后产生的金属纯度可达83％[2]。
(η3-allyl)Ru(CO)3Br前体还可用于紫外光诱导的辅助式CVD。这种低温过程可实现钌Ru在自组装单层膜（SAMs）和聚合物等有机表面上的生长[6-7]。参考文献：
- Eur. Phys. J. D 2019, 73, 227
- ACS Appl. Mater. Interfaces 2019, 11, 28164
- Phys. Chem. Chem. Phys. 2017, 19, 13264
- Eur. Phys. J. D 2016, 70, 164
- J. Phys. Chem. C ,2015, 119, 15349−15359
- Organometallics 2019, 38, 4363
- J. Chem. Phys. 2017, 146, 052816
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